窒素閉ループシステム:低酸素環境における精密な流量制御と実践的なプロセス改善

窒素の応用開発

1970年代初頭には,窒素が惰性な環境を作り,酸素との反応を効果的に防止することが判明し,徐々に電子機器製造分野で使用されました.
1990年代には,表面マウント技術 (SMT) が普及し,低酸素環境と溶接の質と信頼性が分離できなくなりました.製造業者達は,反流プロセスにおける窒素の使用を標準化し始めました..
現在,電子部品の小型化と精度の傾向は,窒素の用途に対する需要を推進し続けています.高品質の電子機器の製造で長らく好ましい構成になっています.

精度の高い窒素流量制御を実現する方法

窒素閉ループシステムは,溶接過程で必要なPPM値内の酸素濃度範囲を制御するために使用される自動制御システムである.低酸素環境や無酸素環境を 保証する.

▲ 窒素設定インターフェイスで制御するPPM値を書き込む.
制御値は,酸素分離器に書き込まれます

▲ 比例バルブ 閉ループ システムは,窒素流量計を制御
窒素の入力は手動操作なしで調整できます.

密閉回路の窒素システムは,不正確な窒素制御流量による窒素消費とコスト増加を効果的に回避します.生産効率を低下させる.

▲ PPM 変化曲線: 入力セット値が 500 であれば
完全閉ループ制御サンプル採取酸素分離器の制御精度は,±50ppmの範囲内で効果的に制御される.

低酸素環境によってもたらされた実際のプロセス改善

実用的な応用や試験では,窒素閉ループシステムを用いて以下の溶接プロセスを改善することができる.

微細な結晶構造

溶接関節の表面は明るい

細いピッチのブリッジを減らす

酸化点溶接を減らす

穴位減少率

現在,KTシリーズのリフロー溶接は,プロセス全体で窒素の定量制御と,各温度ゾーンの独立した閉ループ制御を実現しています.酸素濃度の範囲が50~200ppmで制御されるように

▲KT 全シリーズ窒素消費図

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